全自动干法制?;那褰嘤胂荆篏MP要求
浏览次数:111更新日期:2025-11-28
在制药、食品等高度监管行业,
全自动干法制?;?/a>作为核心生产设备,其清洁与消毒直接关系到产品质量与合规性。依据《药品生产质量管理规范》(GMP),设备清洁需实现“可见残留清除+微生物污染控制”的双重目标,而干法制?;蚪峁垢丛樱ê隙?、压辊、制粒室、筛网等部件)、物料易残留的特性,更需建立科学严谨的清洁消毒体系。

GMP对清洁消毒的核心要求
GMP强调“防止污染与交叉污染”,要求清洁验证需证明设备表面无活性药物成分(API)、辅料及微生物残留,且清洁程序可重复、可追溯。具体到干法制?;杪闳悖阂皇俏锢砬褰?,消除物料黏附;二是化学消毒有效,杀灭细菌、霉菌等微生物;三是清洁效果可量化验证(如TOC检测、微生物限度检查)。
清洁消毒的关键步骤
1.预处理:生产结束后立即拆卸可拆卸部件(如筛网、压辊),清除大块物料,避免干燥后残留硬化。
2.主清洁:采用“预冲洗-清洁剂清洗-终冲洗”三步法。预冲洗用去离子水去除松散残留;清洁剂需根据物料性质选择(如碱性清洁剂去油脂、酸性清洁剂除无机盐),浓度与时间需经验证;终冲洗至淋洗水pH、电导率与原水一致,确保无清洁剂残留。
3.消毒:常用75%乙醇或0.1%-0.2%过氧乙酸溶液擦拭或喷淋,重点处理密封件、缝隙等易滋生微生物的部位。消毒后需无菌环境晾干,避免二次污染。
4.干燥与组装:清洁消毒后用压缩空气吹扫或低温烘干,防止水分残留导致微生物繁殖;组装前检查部件完整性,避免清洁死角。
验证与持续改进
清洁消毒程序需通过验证确认有效性:取样点覆盖最难清洁部位(如压辊间隙、筛网背面),检测方法包括目视检查、棉签擦拭法(测API残留)、接触皿法(测微生物)。同时,需定期回顾清洁记录,结合产品切换、设备维护等情况优化程序,确保持续符合GMP要求。